蒙脫shi混懸液均質機，不僅可以對蒙脫shi混懸液粒徑進行細化，還可以將混懸液均質的更均勻。這取決于太倉希德研磨均質機的特殊設計，SID研磨均質機將膠體磨和均質機合二為一，先研磨細化粒徑，再對物料進行均質，使蒙脫shi混懸液更加細膩、均勻、穩定。

蒙脫shi混懸液均質機

蒙脫shi混懸液由主藥蒙脫shi、助懸劑、矯味劑等組成，用于治療腹瀉及消化道潰瘍等效果xian著。其具有服用劑量準確、服用攜帶方便、粒度較細、服用后可快速均質到人體消化道、效果更好等多種優點。混懸液的制備原則首先是使粉粒潤濕并在液體均質介質中均勻均質，保持一定條件使其盡量不聚集，然后采取一定的措施防止結塊。

制備方法通常混懸液的有兩種：均質法和凝聚法。由于蒙脫shi本身的性質我們采用的是均質法，混懸液中微粒的大小不僅關系到混懸液的質量和穩定性，也會影響混懸液的藥效和生物利用度。所以測定混懸液中微粒大小及其分布，是評定混懸液質量的重要指。由于本研究的蒙脫shi采用的是法國益普生公司研制的商品名為思密達的蒙脫shi散劑，故其微粒大小符合要求，無需測其微粒大小。

當蒙脫shi混懸液的工藝配方確定時，為了降低沉降系數，我們可以通過減小粒子的半徑來縮小沉降系數。蒙脫shi混懸液粒徑的細化，取決于均質設備的選擇。如果采用SID研磨均質機的話，不僅可以對蒙脫shi混懸液粒徑進行細化，還可以將混懸液均質的更均勻。這取決于太倉希德研磨均質機的特殊設計，SID研磨均質機將膠體磨和均質機合二為一，先研磨細化粒徑，再對物料進行均質，使蒙脫shi混懸液更加細膩、均勻、穩定。

GMD2000系列研磨均質設備是SID（太倉）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨均質乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料均質乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

GMD2000系列均質機的結構：研磨式均質機是由錐體磨,均質機組合而成的高科技產品。
初級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。均質頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

蒙脫shi混懸液均質機的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。